Hoge diffusiewegen

Abstract

In de voorgaande hoofdstukken waren de enige defecten die de diffusie door het kristal bevorderden vacatures en interstitialen. Dislocaties, vrije oppervlakken, en korrelgrenzen kwamen slechts te hulp om de evenwichtsdefectconcentratie te bereiken. Het is nu echter duidelijk vastgesteld dat de gemiddelde sprongfrequentie van atomen op dislocaties, grenzen of oppervlakken veel hoger is dan die van hetzelfde atoom in het rooster. De diffusiviteit is daarom hoger in deze gebieden. Deze hogere diffusiviteit is om verschillende redenen van belang. Ten eerste is er de vraag welke fout deze paden introduceren in de meting van de rooster-diffusiecoëfficiënt. Bovendien is het met goed opgezette experimenten mogelijk de diffusiecoëfficiënten in elk van deze gebieden met hoge diffusiecoëfficiënt te bepalen, zodat men meer te weten kan komen over de structuur van deze paden en over de manier waarop de atomen zich daarin bewegen. Tenslotte is er een groep kinetische processen die door dergelijke diffusie worden beperkt, bijvoorbeeld diffusiekrimp, structuurveranderingen in dunne films, of de stabiliteit van fijne katalysatoren.